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微波等離子體化學氣相沉積MPCVD

鉆石培育技術已經越來越熟悉的進入人們的視野,MPCVD設備的研發也是提升到了新階段,那么MPCVD設備是什么呢?
        MPCVD中文名稱叫微波等離子體化學氣相沉積,MPCVD設備作為優異的鉆石培育設備,其工作原理為通過微波源產生微波,在微波場的作用下,反應氣體被激發為等離子體狀態。等離子體是部分電子被剝奪后的原子及原子團被電離后產生的正負離子組成的離子化氣體狀物質。等離子體呈球狀形成于金剛石襯底上,利用等離子體的高溫讓襯底可以加熱到一定的溫度。用5KW 微波功率的MPCVD設備,可以以微米級每小時的速率沉積工具級金剛石膜、熱沉級金剛石膜、光學級金剛石膜等。

        MPCVD設備能沉積高純度的金剛石膜,其沉積速率也可以通過加大微波功率來提高。裝置設計人員將微波頻率從2.45GHz降低到915MHz。如果使用915MHz頻率的微波MPCVD設備裝置,就可以使微波功率提高很多,而微波功率的加大則能大幅度地提高金剛石膜的沉積速率,從而降低生產成本,提高生產效率。一般2.45GHz頻率的MPCVD設備,它的微波功率一般不超過8KW,微波頻率的降低就可以使駐波腔截面積加大,使得金剛石膜的沉積面積加大,而沉積金剛石膜的直徑也從1.5KW微波功率的50mm金剛石膜上升到75KW微波功率的250mm金剛石膜。